그래핀랩, 차세대 EUV 펠리클 독자 기술로 반도체 시장 선도 가속 차세대 반도체 핵심 소재 개발 기업 그래핀랩이 EUV 펠리클 독자 기술을 앞세워 글로벌 반도체 시장 공략에 속도를 내고 있다. 그래핀랩은 그래핀 직성장 기술을 기반으로 EUV 펠리클 투과율 90% 이상을 확보하며, 미세 공정 경쟁이 치열한 반도체 산업에서 주목받는 소재 기업으로 부상했다. 그래핀랩이 개발한 EUV 펠리클은 차세대 반도체 노광 공정의 핵심 부품이다. EUV 공정에서 펠리클은 마스크를 오염으로부터 보호하면서도 높은 투과율을 유지해야 하는 고난도 기술 영역이다. 그래핀랩은 자체 직성장 그래핀 기술을 적용해 기존 한계를 넘어서는 성과를 냈으며, 이는 반도체 생산 효율과 수율 향상에 직접적인 영향을 미칠 수 있는 기술로 평가된다. 회사는 지난 1년간 연구개발에 집중하며 관련 핵심 특허 출원을 준비하는 한편, EUV 펠리클 제조를 위한 신규 설비 도입도 마무리했다. 현재는 실제 반도체 양산 환경에 적용 가능한 수준의 검증 단계에 진입해 상용화 가능성을 높이고 있다. 업계에서는 해당 기술이 양산 공정에 안착할 경우, EUV 공정 안정성과 비용 효율성 개선에 기여할 것으로 보고 있다. 그래