그래핀랩, EUV 펠리클 상용화 ‘성큼’…반도체 소재 국산화 신호탄

차세대 반도체 핵심 소재 기업 ㈜그래핀랩이 코스닥 상장 협력사와 공동개발계약(JDA)을 체결하며 그래핀 기반 EUV 펠리클 상용화에 속도를 내고 있다. 이번 협력은 기술 검증 단계를 넘어 양산 기반 확보로 이어질 수 있다는 점에서 업계의 관심이 집중되고 있다.

 공동개발 계약 체결, 상용화 전환점 마련
그래핀랩은 이번 JDA를 통해 고객사 수준의 기초 검증을 완료했다고 밝혔다. 이를 바탕으로 공정 안정성과 생산성을 확보하는 데 역량을 집중하고 있다. 업계에서는 이번 계약을 기술개발 단계에서 실제 산업 적용 단계로 넘어가는 중요한 분기점으로 평가하고 있다.

 그래핀 직성장 기술, 핵심 경쟁력 부각
그래핀랩은 화학기상증착법(CVD)을 활용한 대면적 그래핀 상용화 기술을 확보한 국내 벤처기업이다. 특히 그래핀 직성장 방식으로 EUV 펠리클 투과율을 90% 이상 끌어올리며 기술력을 입증했다. 초박막 구조와 높은 내열·내구성 확보 역시 경쟁력을 높이는 요소로 꼽힌다.

 EUV 펠리클, 고가 포토마스크 보호 핵심 장치
반도체 노광 공정에서 EUV 포토마스크는 장당 1억원이 넘는 고가 장비다. 이에 따라 오염 방지와 수명 연장을 위한 펠리클 기술이 필수적이다. 그래핀 기반 펠리클은 높은 투과율과 공정 호환성을 동시에 확보해 차세대 대안으로 주목받고 있다.

자금 확보와 중국 시장 진출 병행
그래핀랩은 주주배정 유상증자를 통해 단기 유동성 리스크를 해소하고 안정적 운영 기반을 마련했다. 동시에 중국 강소성 치동시에 현지 법인을 설립하고 샘플 생산 라인을 구축 중이다. 빠르게 성장하는 중국 그래핀 응용 시장을 겨냥한 전략적 행보다.

 “글로벌 반도체 시장 공략 본격화”
권용덕 대표는 그래핀 기반 EUV 펠리클 상용화를 통해 반도체 공정 효율성과 성능 향상에 기여하겠다고 밝혔다. 이어 설비 적기 도입과 지속적인 연구개발을 통해 세계적 기술 경쟁력을 확보하겠다는 의지를 강조했다. 업계는 그래핀랩의 행보가 소재 국산화와 글로벌 시장 경쟁력 확보의 시험대가 될 것으로 보고 있다.